• Lewatit UltraPure 1296 MD PLUS ab sofort verfügbar
• Stark reduzierte Metallgehalte der Ionenaustauscherkomponenten
• Niedrige Freisetzung von TOC (Total Organic Carbon) und Partikeln
• Hohe nutzbare Kapazität 

Der Spezialchemie-Konzern LANXESS hat ein neues Mischbettharz für Reinstwasser in der Halbleiterproduktion entwickelt. Im Vergleich zu dem bewährten Harz Lewatit UltraPure 1296 MD weist das neue UltraPure 1296 MD PLUS einen stark reduzierten Metallgehalt z. B. von Eisen, Zink und Natrium auf. Erste Installationen als Endreinigungsfilter in der Halbleiterfertigung zeigen Werte nahe der heutigen analytischen Nachweisgrenzen.

LANXESS präsentiert den neuen Ionenaustauschertyp erstmals dem Fachpublikum auf der UltraPure Micro Konferenz, die vom 10. bis 12. Oktober 2023 im amerikanischen Austin, Texas, stattfindet.

„Das in Deutschland produzierte Lewatit UltraPure 1296 MD PLUS ist für die stark wachsende internationale Halbleiterindustrie eine wichtige Komponente für eine wirtschaftliche, nachhaltige und störungsfreie Fertigung“, sagt Hans-Jürgen Wedemeyer, Technical Marketing Manager im Geschäftsbereich Liquid Purification Technologies von LANXESS.

Lewatit UltraPure 1296 MD PLUS für höchste Ansprüche

Bei der Herstellung von Halbleitern und Displays ist eine komplexe Wasseraufbereitung erforderlich, um die vorgeschriebene Wasserqualität zu erreichen. Die neueste Generation von Wafern und Mikrochips erfordert eine entsprechend hohe Qualität der Ionenaustauschersysteme. Zudem sind neue Analysesysteme in der Lage, Ionen im unteren ppt-Bereich (parts per trillion) zu analysieren – und für einige Ionenarten sogar im ppq-Bereich (parts per quadrillion). Um die heutzutage von der Industrie geforderte Leistung der Halbleiter zu erreichen, sind bis zu 200 Aufbereitungsschritte erforderlich. Das hierzu benötigte Reinstwasser wird in einem aufwändigen, mehrstufigen Verfahren bereitgestellt. Zu den wichtigsten Verfahrensschritten zählen neben der klassischen primären Demineralisierung mit konventionellen Ionenaustauschern, Umkehrosmose, Entgasung, Ultrafiltration und Wasserstoffperoxid-Entfernung im letzten Schritt die Feinreinigung mit einem hochreinen Mischbett. Genau für diesen letzten und den Erfolg überaus kritischen Schritt wurde der neue Ionenaustauschertyp Lewatit UltraPure 1296 MD PLUS entwickelt.

Das so aufbereitete Reinstwasser kann danach in Ätz- und Reinigungsprozessen in der Mikrochip-Herstellung eingesetzt werden. „Die hohe Gesamtkapazität und der Umladegrad der Anionen- und Kationenaustauscher führt zusätzlich zu einer hohen nutzbaren Kapazität für die Entfernung von Bor und Kieselsäure sowie Metallionen“, sagt Wedemeyer.

„Die Korngrößen der monodispersen Komponenten sind so ausgelegt, dass eine unerwünschte Entmischung von Anionen- und Kationenaustauscherharzen reduziert wird. Durch die spezielle Herstellung von Lewatit UltraPure 1296 MD PLUS wird zusätzlich eine geringe TOC- und Partikelfreisetzung erzielt“, betont Wedemeyer.

Ausführliche Informationen zu den Produkten des Geschäftsbereichs Liquid Purification Technologies bietet der Internetauftritt www.lewatit.de.

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